等离子清洗机并不能洗掉脏污,只起到表面活化,改变微观结构,起到提高附着力的作用,等离子清洗机喷嘴的处理宽度为约8-12 mm,每次使用时都要提前对清洗宽度进行接触角测量.
塑料的等离子清洗：
等离子清洗机进行常压等离子处理的时候，等离子清洗不得脱离于等离子活化。作为工艺气体,通常使用干燥和不含油的压缩空气。该原理和金属的等离子清洗是一致的。
玻璃和陶瓷的等离子清洗：
清洗玻璃和陶瓷 的方法和清洗金属是一样的。作为清洗玻璃的 工艺气体 ，通常使用压缩空气。一般而言，大多用 压缩空气 进行清洗 。作为重要参数，此处必须对距离、速度以及反复处理（最好是多次进行处理）加以考虑。
等离子射流/活性气体射流是无电位型的吗？
是的，等离子清洗机的活性气体射流不具有任何 或者仅具有极少的电位。故此，等离子清洗机通常用于对电气部件进行清洗。也可用于处理非导电性的材料。
进行等离子清洗的时候会产生哪些废气？
会产生 氮氧化物 NO 和 NO2。当然还可能产生少量的含碳废气 (CO2, CO)。
用等离子清洗机处理的宽度是多少？
一个喷嘴的处理宽度为约 8-12 mm。当然，每次使用时都要提前对清洗宽度进行检测（例如，接触角测量）。使用纯氧气(O2)或者氮气 (N2) 的时候，处理宽度略微增加。
处理速度可达到多少？
较之于活化工艺，清洗速度可达每秒几 cm。有效清洗需对表面进行升温，只有借助较低的速度才能达到这一目的。
射流温度有多高？
等离子射流平均温度为约 200 – 250 °C。 如果距离和速度设定是正确的，则表面温度可达到约 70 – 80 °C。故此，该项技术可以用于所有标准材料（金属、陶瓷、玻璃、塑料、弹性体）。
用常压等离子体进行的等离子清洗，其有效期是多少？
可以用接触角测量仪进行不同时间段的接触角测试，从而量化保存期限。
等离子清洗机能洗什么？
等离子清洗机并不能洗掉脏污，只是起到表面活化，改变材料表面微观结构，起到提高附着力的作用。
等离子清洗机，是不是什么脏东西都能洗掉？到底是洗什么？对于这类问题我相信很多刚接触等离子清洗机的人都会想到，所以在这里我们有必要说明一下。
等离子清洗机，又名等离子处理机，等离子表面处理设备。光从名称上来看，清洗并不是清洗，而是处理和反应。从机理上看：等离子清洗机在清洗时通入工作气体在电磁场的作用下所激发的等离子与物体表面产生物理反应和化学反应。其中，物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走；化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质，从而达到清洗目的。
工作气体，经常用到氢气（H2）、氮气（N2）、氧气（O2）、氩气（Ar）、甲烷（CF4）等。在等离子清洗机过程中很容易对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等进行处理。这样以来让我们很容易联想到：去除零件上的油污，去除手表上的抛光膏，去除线路板上的胶渣，去除DVD上的水纹等等所延伸的领域大都能用等离子清洗机解决。
但是，“洗表面“才是等离子清洗机技术的核心，简单的来说清洗表面就是在被处理材料表面打出无数个肉眼看不到的小孔，同时在表面形成一个新的氧化层薄膜。这样以来大大增加了被处理材料的表面积，间接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸润性、扩散性等等。而这些性能又恰当的应用在手机，电视，微电子，半导体，医疗，航空，汽车等各行各业中，为众多企业解决多年未曾解决的难题。
所以，等离子清洗机并不是什么脏东西都能洗掉，它是比较针对性的去除某些物质和材料表面改性处理
等离子清洗机可以对各种材料进行表面处理：
等离子体应用在汽车行业里已不可缺少。各项工艺流程之间必须互相精密协调，这是确保产品一贯具有高品质的先决条件。通过我们的设备，我们能够满足汽车制造行业预处理技术的要求，例如，通过等离子体清洗工艺，清除制造残留物或者有机硅残留物。等离子活化也可用作粘合或者喷漆涂层的预处理，例如对高性能塑料进行等离子体蚀刻，以及将等离子体涂层作为粘合促进剂（等离子体底漆）。
消费者对于产品的需求日益增加。用我们的等离子设备对表面进行预处理，可以确保各类材料均可实现最大程度的表面活化。 耐用的粘接接头，生产时不产生有害物质或者具有抗污性的表面，以及耐火功能涂层仅是几个例子。等离子体可以确保具有可靠的附着性能，而且无需使用溶剂，例如，家具、白色家电、玩具和运动器材。
制造工艺和所用材料的质量对于模块的使用寿命和有效性而言是极为关键的。经常会发生由于气候变化导致光伏模块损坏的情况。 渗入水分会导致太阳能电池性能急剧下降。用我们的设备对太阳能模块进行等离子体预处理，可以显著提高其质量，从而确保模块具有长期稳定性和耐候性。
等离子蚀刻
等离子蚀刻是指通等离子工艺去除表面上的材料。其也被称为干式蚀刻，因为传统蚀刻工艺是使用腐蚀性酸进行湿式蚀刻的。工艺气体的等离子体将待蚀刻材料从固相转化为气相，并通过真空泵将气相产物抽吸出来。借助掩膜可以只对部分区域或结构进行蚀刻。仅在低压等离子体中进行等离子蚀刻，因为达到规定的蚀刻作用，需要较长的处理时间。几乎所有的蚀刻气体都只能在低压等离子体中使用。等离子蚀刻具有很多的应用用途。对于蚀刻过程的优化而言，提供了数目众多的可用工艺气体，并有 3 种基本蚀刻方法以供选择。离子刻蚀根据具体应用情况，除了可称为“物理蚀刻”，“溅射”以外，还可称为“微喷砂”。工艺气体是氩气或者其他惰性气体，但是其离子不会形成任何自由基。电场中加速运动的电子所产生的动能会将基材中的原子和分子分离出来，这正是蚀刻作用的原理。
应用用途：
表面的微结构化，例如，用于提高粘合力（“微喷砂”）
蒸镀源的喷射（“溅射”）
因为离子蚀刻不发生化学作用，其几乎适用于所有基材（几乎没有选择性）。等离子体的蚀刻作用基本都是有离子加速度方向所决定的。其效果是强烈的各向异性。
化学等离子蚀刻
所用的工艺气体，其分子在等离子体中主要分裂为自由基。蚀刻作用主要基于这些自由基与基材的原子或分子之间的反应，以及其转化得到的气相分解产物。
重要应用用途：
氧化层的降解
去除光刻胶（“剥离”）
矩阵灰化，用于分析
蚀刻 PTFE
半导体的结构化和微结构化
等离子蚀刻是非常有选择性的，也就是说，工艺气体和基材必须很好的进行匹配。蚀刻作用是具有各向同性的，即，各个方向上的作用均是相同的。
反应性离子蚀刻
气体分子在等离子体中形成自由基和带正电荷的离子。如果进行了等离子激发，从而使电场中的离子加速，并射入至基材，则蚀刻过程除了可以利用离子的动能之外还可以利用自由基的反应性作用。
反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻和等离子蚀刻的效果： 其具有一定的各向异性，而且未与自由基发生化学反应的材料会被蚀刻。首先，蚀刻速率显著增加。通过离子轰击，基材分子会进入激发态，从而更加易于发生反应。