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等离子清洗机研发制造商

芯片封装等离子体应用,晶圆级封装的等离子清洗-达因特

     芯片封装等离子体应用包括用于晶圆级封装的等离子体晶圆清洗、焊前芯片载体等离子体清洗、封装和倒装芯片填充。达因特智能

     ito电极的表面性质和抗组分结构对pled显示器的光电性能都有重要影响。为了保的像素形成和大的亮度,喷墨印刷的褶皱材料需要非常特殊的表面处理。这种表面工程是利用pva-tepla独特的平面微波等离子体技术来完成的,它能在ito表面和衬底结构上产生所需的表面能。tepla工艺允许选择性地产生亲水和疏水的表面条件,以控制像素填充和墨水流动。此外,在lep沉积之前增加ito的功函数可以大大提高电荷进入有机层的效率。

图片1 等离子电源框图

     微波平面等离子体系统是专为大基板的均匀处理而设计的,可扩展到更大的面板尺寸。引进300毫米晶圆对裸晶圆供应商提出了新的更高的标准要求:通过将直径从200毫米增加到300毫米,晶圆的表面积和重量增加了一倍多,但厚度却保持不变。这大大增加了破碎险。300毫米晶圆具有高水平的内部机械张力(应力),这大大增加了集成电路制造过程中的断裂概率。这有明显的代价高昂的后果。因此,应力晶圆的早期检测和断裂预防近年来受到越来越多的关注。此外,晶圆应力对硅晶格特性也有负面影响。sird是晶圆级的应力成像系统,对降低成本和提高成品率做出了重大贡献。

电路板行业等离子清洗

     等离子体表面处理技术是一种经济有效的太阳能电池边缘隔离技术,在电池生产线中得到了广泛的应用。作为一个额外的好处,等离子体过程包括在细胞边缘的锯片损伤的原位微裂纹愈合,从而降低细胞破裂的风险。我们新的等离子系统为电池组提供了改进的加载功能,每小时高达1600个电池。微波等离子体是众所周知的高蚀刻率与低温处理易于处理。电池组在蚀刻周期内旋转以获得均匀性,而伸缩级为操作人员提供了极好的加载通道。可选择通过机器人进行全自动装载。

 等离子清洗原理图片

    等离子体清洗是提高电池表面润湿性的有效方法。为了提高湿变形工序的均匀性和可重复性,短时间的等离子体清洗处理步骤大大提高了进料单元的表面质量。